光照需求分析：

动态物体要使用realtime或者mixed模式的灯光提供直接光和实时阴影，间接光由light probe组件提供。

(资料图)

静态物体需要采用baked模式的灯光进行烘焙。

使用哪种烘焙模式：

烘焙GI提供三种不同的模式，要知道各种模式的差异来判断自己需要哪种模式。

Baked Indirect：

动态物体接受：受实时光、可以用lightprobe、接受动态物体和静态物体的实时阴影。

静态物体接受：受实时光、受间接光烘焙、动态和静态物体的实时阴影

Subtractive：

动态物体接受：受实时光、可以用lightprobe、接受主方向光照射动态物体的实时阴影和静态对象的实时阴影。

静态物体接受：只接收烘焙光、静态物体的烘焙阴影、主方向光照射动态物体的实时阴影。

Shdowmask：

动态物体接受：受实时光、可以用lightprobe、接受动态物体的实时阴影和静态对象的烘焙阴影。

静态物体接受：受实时光、受间接光烘焙、动态的实时阴影和静态的烘焙阴影

烘焙前的注意事项：

场景的结构要清晰，通过看结构树就能分得清哪些物体是参与烘焙，哪些物体是动态的，方便后期进行迭代和维护。

常见烘焙问题：

光照信息错乱：

一般是模型的2u引起的，要检查2u是否有重叠，或者使用unity自带的generate lightmap检查模型。

还有可能是单面的模型引起的漏光，有双面显示的shader，先勾选双面显示进行测试，没有的就要在dcc软件中手动制作双面进行测试。

光照信息丢失：

首先检查物体是否受烘焙，检查是否为静态物体，culling mask有没有排除该物体的layer。

然后切换为默认材质进行测试，排查是否是shader原故引起。

常见报错：

overlapping 警告

在烘焙场景时经常会出现overlapping提示，一般查看视觉效果没问题的话就可以忽略，这个报错是因为2u的间距太近引起的，可能会在烘焙后导致模型漏光。

解决办法：

在margin method设置calulate，调整合适的min light resolution和min object scale

在margin method设置manual，调整pack margin的参数